ナノインプリントリソグラフィ

フォトリソグラフィの場合、レジストの反応波長以下のパターン形成は著しく困難となり、短波長に反応するレジストも著しく高価となる。ナノインプリントリソグラフィは、マスターの金型作製時にこそ加工単価が高い短波長用レジストや電子ビーム加工を必要とするが、その後は安価な紫外線反応レジストが使用できることから量産でコストを大幅に低減できる。