電子ビームリソグラフィ

ナノサイズのパターンを形成する場合、短波長光に反応しないレジストや回折によりフォトマスク用いた精細パターン形成が困難となる事から電子ビームを用いてSiウエハに直接パターン形成する手法。電子ビームにより対象のウエハ表面の原子を除去する手法なので、長い加工時間が必要となる。